Acquisition, livraison et mise en service d’un bâti de gravure plasma au sein de l’Institut des NanoSciences de Paris (INSP)

Dans le cadre de ses activités de micro-nanofabrication de dispositifs et de composants, l’INSP souhaite acquérir un bâti de gravure plasma. L’équipement attendu est une machine de gravure par plasma de type RIE-ICP (Reactive Ion Etching – Inductively Coupled Plasma) constitué de deux électrodes qui génèrent un plasma uniforme de haute densité à partir d’une source inductive, et d’une cathode indépendante pour polariser les substrats. L’équipement devra comporter un module de gravure profonde du silicium et un système de détection de fin d’attaque par interférométrie laser.